位于北五环的中关村集成电路设计园，是一座集成电路设计相关行业使用的专项园区，是国家京津冀发展战略中心的“科技创新中心”园区，地位非同一般！
该项目总建筑面积217300平方米，设计从大规划上将园区进行功能区块划分，规划以“一心、两园、三轴”的模式花费出具有层次感的布局，“多维交互”空间在园区的核心区“一心”处进行深入设计，在将核心区域进行空间立体分割，通过“云、谷、地”等多个维度的分层，将园区尺度变小。
该项目依据IC人性格特点，整体上给人以方正、严谨的空间感受，立面上将“芯片”的工艺美感引入其中，采用透射率较高的玻璃幕墙体系，局部点缀米色石材，通过错拼手法体现出IC产业的科技感，局部裙房采用圆角处理，将界面变得柔和而连续，与平台的联系更为融洽，建材方面主要以石材和铝板为主。
在生态环境方面，打造符合IC人办公特点的生态系统，项目整体设计考虑可持续发展设计要求，从节能、节水、节地、节材与舒适的是能环境策略入手，进行深入设计。目前园区已通过绿建二星、三星认证及“LEED CS”金级认证，并获得2016年第13届精瑞可续技术奖可持续社区金奖。
中关村集成电路设计园是一场针对“IC人群”展开的建筑探索，这种探索以人为出发点，带入性地感受他们所需的交流环境，切实地创造出真正适用于IC人群的产业园区。
